硫酸カルシウム結晶は無機物であり、化学式はCaSOである4.2H2O，白色単斜晶または結晶性粉末。無臭。吸湿性がある。128℃で1分子結晶水が失われ、163℃ですべて水が失われた。酸に微溶解、チオ硫酸ナトリウムとアンモニウム塩溶液、400部の水に溶解し、熱水に溶解することが少なく、非常に遅く溶解するグリセリン、エタノール及び多数に不溶ゆうきようざい。相対密度2.32。刺激性がある。通常2つ含まれるけっしょうすい、自然界には石膏鉱の形で存在する。

硫酸カルシウム回転焼成窯このシリーズの窯は常州カン林乾燥による雰囲気保護窯を基礎に、開発製造された省エネ型窯であり、炉温度制御が均一で、長期運転、故障率が低く、寿命が長く、安定で信頼性がある。不活性ガス保護、炉内酸素含有量≦20 ppm。カルシウム粉末の焼成に適している。

焼成中、回転筒体には小さな傾斜があり、材料は窯の中で供給端から排出端まで移動し続けた。窯は一般的に連続して完全に自動運転されている。これらは、さらなる輸送設備を必要とせずに直接材料を輸送することができ、これらの窯をより省エネにすることができます。回転窯の焼成プロセスは材料に重要な機械的影響を与えるため、処理する材料のために回転窯を設計しなければならない。熱分解設備の設計と工事では、材料の特性パラメータ、すなわち流動特性、流動性、炉密度、含水量、プロセス温度を考慮しなければならない。異なる材料に対して、回転筒体の長さに沿った傾斜度、回転筒体の回転速度、および筒体に溶接された追加のコンポーネントは、それに合わせて設計されなければならない。セラミックス、ガラスおよび接着剤産業では、ロータリーキルンは現在、粉末、粒状、塊状および乾燥または湿潤混合物の熱処理に使用されている。主な用途は乾燥、脱着、仮焼、焼成、発泡、焼結などである。この基礎の上で、異なる雰囲気下の典型的な応用を結合して、回転焙焼窯の重要な生産技術の違いによって、設備の加熱タイプは基本的な違いで、2種類：直接加熱回転窯（図1）と間接加熱回転窯（図2）間接加熱回転窯は間接加熱回転窯の中で、回転筒体は外部から加熱する。これは、燃焼器や電気加熱により実現することができる.特に、処理後の製品は強い粉塵を発生しやすく、異なる温度勾配要件を経なければならない、または不活性または保護雰囲気などの特殊なプロセス条件で処理しなければならない。回転筒体の材料としては、プロセスによる温度、雰囲気、材料処理の強度の要求に応じて、金属管は1150°Cを使用することができる。内部熱回転管は製品を汚染から保護するために使用され、金属管よりはるかに高い温度（1600°Cまで）を許可する。しかし、内熱窯の製造過程ではその幾何学的形状の制限により制限される。